Wonik QnC Corporation (074600.KQ)

Con sede en Gumi-si, Corea del Sur, Wonik QnC Corporation, fundada en 1983 y anteriormente conocida como Wonik Quartz International Inc hasta 2012, es un fabricante y proveedor de piezas críticas de cuarzo y cerámica para la fabricación de obleas de semiconductores. Su negocio está estructurado en divisiones diferenciadas: Quartz Division: Este segmento ofrece una gama de artículos de cuarzo vitales para la producción de circuitos integrados de semiconductores, así como componentes para la fabricación general de semiconductores, pantallas de cristal líquido (LCD), diodos emisores de luz (LED) y células solares. Ceramic Division: Esta división suministra una amplia gama de sustancias cerámicas, incluyendo nitruro de aluminio, carburo de silicio, compuestos de nitruro de boro, nitruro de silicio, alúmina y zirconia. También diseña componentes especializados para semiconductores, tales como boquillas CVD AIN, susceptores ALD SiC, diversos anillos de proceso de grabado en seco (SiC edge, capture), anillos de cuello CVD, anillos de cubierta, anillos moer, tapones DC de SiC, calentadores de compuesto BN y brazos robóticos. Además, produce piezas para la fabricación de Flat Panel Display (FPD), tales como EVAs OLED, crisoles, pasadores y guías de elevación de vidrio, soportes, rodamientos cerámicos y otros elementos cerámicos. La división también fabrica utillajes para las industrias automotriz y electrónica, junto con componentes de equipos para una variedad de otros sectores. Lamp Division: Responsable de la producción de lámparas EUV, las cuales se despliegan en el procesamiento de semiconductores, tecnología de visualización, soluciones ambientales y para aplicaciones de mejora de superficies en materiales plásticos y metálicos. Cleaning Division: Ofrece servicios de lavado de precisión, específicamente para componentes de cuarzo de alta precisión como tubos de cuarzo para procesos de difusión, pedestales y barcos de Si-C, que son cruciales para los procesos de difusión y deposición de vapor de película delgada en equipos de fabricación de semiconductores.